La invención se refiere a un método para preparar una superficie (2) de un tanque criogénico (1) de un vehículo de lanzamiento espacial, el tanque (1) consta de al menos una pared (2) hecha de una aleación de aluminio, en la que al menos parte de la superficie de la pared (2) se somete a ataque químico, caracterizado porque el ataque incluye ataque químico por tecnología de plasma, es decir, por bombardeo de la superficie con un haz de gas plasma de gas ionizado. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)
The invention relates to a method for preparing a surface (2) of a cryogenic tank (1) of a space launch vehicle, the tank (1) consisting of at least one wall (2) made of an aluminium alloy, in which at least part of the surface of the wall (2) is subjected to etching, characterised in that the etching includes etching by plasma technology, i.e. by bombardment of the surface with a plasma gas beam of ionised gas.
Método de preparación de la superficie de un depósito criogénico de una lanzadera espacial
2023-06-05
Patent
Electronic Resource
Spanish
European Patent Office | 2022
|Depósito de almacenamiento compacto automatizado con lanzadera autónoma
European Patent Office | 2017
|Dispositivo de recuperación de vapores procedentes de un depósito criogénico
European Patent Office | 2019
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