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    Titel :

    STEREO-LITHOGRAPHY WITH XECL EXCIMER LAMP



    Kongress:

    International conference; 8th, Rapid prototyping ; 2000 ; Tokyo



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2000


    Format / Umfang :

    6 pages


    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Stereolithography with XeCl excimer laser/lamp [3888-29]

    Satoh, S. / Tanaka, T. / Ihara, S. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Development Of Repetitively Pulsed XeCl Excimer Laser

    Bhatnagar, P. / Shrivastava, B. B. / Mokhariwale, A. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Zinc oxide film formation by using XeCl excimer laser ablation

    Hiramatsu, M. / Ichiyanagi, S. / Imaeda, K. et al. | IEEE | 1999


    Beam divergence studies on a long-pulse XeCl excimer laser [2788-22]

    Hofstra, R. M. / Van Goor, F. A. / Witteman, W. J. et al. | British Library Conference Proceedings | 1996


    Excimer lithography for ULSI

    Miyaji, A. / Suzuki, K. / Tanimoto, A. | British Library Online Contents | 1993