Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Characteristics of tantalum oxynitride films prepared by rf magnetron sputtering [4099-30]


    Beteiligte:

    Kongress:

    Conference, Optical metrology roadmap for the semiconductor, optical, and data storage industries ; 2000 ; San Diego, CA



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2000


    Format / Umfang :

    9 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Nr. 4099

    DataCite | 1924



    Standardization in optics characterization (Invited Paper) [4099-14]

    Ristau, D. / SPIE | British Library Conference Proceedings | 2000


    New procedure for the optical characterization of high-quality thin films [4099-16]

    Bosch, S. / Leinfellner, N. / Quesnel, E. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000


    Properties and Electrochromic Performances of Titanium Oxynitride Thin Films Prepared by Reactive Sputtering

    Rousselot, C. / Chappe, J.-M. / Martin, N. et al. | British Library Conference Proceedings | 2003