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    Titel :

    Mask and source optimization for lithographic imaging systems [5182-12]


    Beteiligte:
    Erdmann, A. (Autor:in) / Farkas, R. (Autor:in) / Fuhner, T. (Autor:in) / Tollkuhn, B. (Autor:in) / Kokai, G. (Autor:in) / Wyrowski, Frank / SPIE

    Kongress:

    Conference; 2nd, Wave-optical systems engineering; Wave-optical systems engineering II



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2003


    Format / Umfang :

    15 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Lithographic image simulation for the 21st century with 19th-century tools (Invited Paper) [5182-11]

    Gordon, R. L. / Rosenbluth, A. E. / SPIE | British Library Conference Proceedings | 2003


    Intracavity beamshaping in waveguide lasers [5182-21]

    Buettner, A. / Zeitner, U. D. / SPIE | British Library Conference Proceedings | 2003


    Investigation of multimode dispersionless beams [5182-17]

    Pavelyev, V. S. / Soifer, V. A. / Duparre, M. R. et al. | British Library Conference Proceedings | 2003


    A Highly Formable Aluminum Alloy-5182-SSF

    Thompson, David S. | SAE Technical Papers | 1977


    Wave-optical engineering with VOL4 VirtualLab [5182-05]

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