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    Titel :

    High aspect ratio micromachining by synchrotron radiation direct photo-etching


    Beteiligte:
    Katoh, T. (Autor:in) / Zhang, Y. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 4 , 3 ; 135-138


    Erscheinungsdatum :

    01.01.1998


    Format / Umfang :

    4 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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