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    Titel :

    Fabrication of HARM structures by deep-X-ray lithography using graphite mask technology


    Beteiligte:
    Coane, P. (Autor:in) / Giasolli, R. (Autor:in) / Ledger, S. (Autor:in) / Lian, K. (Autor:in) / Ling, Z. (Autor:in) / Gottert, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2000


    Format / Umfang :

    5 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Fabrication of intermediate mask for deep x-ray lithography

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