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    Titel :

    HOLOGRAPHY Submicron photolithography opens new areas of holographic design


    Beteiligte:
    Mossberg, T. W. (Autor:in) / Greiner, C. M. (Autor:in) / Iazikov, D. (Autor:in)

    Erschienen in:

    LASER FOCUS WORLD ; 40 ; 73-78


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2004


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    621.366




    Integrated-Holographic Coarse-Wavelength-Division Multiplexers Patterned by DUV Photolithography

    Greiner, C. M. / Iazikov, D. / Mossberg, T. W. | British Library Online Contents | 2007



    Membrane photolithography

    Yee, C.K. / Amweg, M.L. / Sapuri, A.R. et al. | IEEE | 2004


    Holographic testing of relief with submicron accuracy [2108-56]

    Zakharov, Y. / SPIE; Russia and Ukraine Chapters / Chernovtsy University et al. | British Library Conference Proceedings | 1993