Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Optics go to extremes in EUV lithography


    Beteiligte:
    Grantham, S. (Autor:in) / Tarrio, C. (Autor:in) / Hill, S. B. (Autor:in) / Lucatorto, T. B. (Autor:in)

    Erschienen in:

    LASER FOCUS WORLD ; 41 , 11 ; 117-122


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2005


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Unbekannt


    Klassifikation :

    DDC:    621.366



    Nanoimprint lithography fabricates subwavelength optics

    Wang, J. / Kostal, H. | British Library Online Contents | 2005


    Lithography aids integration of optics

    Hairston, N. | British Library Online Contents | 2001


    Additive Lithography for Micro-Optics Fabrication

    Pitchumani, M. / Hockel, H. / Sung, J. et al. | British Library Conference Proceedings | 2002


    CVD diamond IR optics enable EUV lithography

    Bennett, A. / Anoikin, E. / Vrolijk, B. | British Library Online Contents | 2013


    Illumination optics design for EUV lithography [4146-03]

    Antoni, M. / Singer, W. / Schultz, J. et al. | British Library Conference Proceedings | 2000