Plasma enhanced chemical vapor deposition, boron silicate glass diffusion source and passivation, simplified co-diffused n-type silicon solar cells. - Plasma-Gasphasenabscheidung, Bor-Silikatglas-Dotierquelle und -Passivierung, vereinfachte ko-diffundierte n-Typ Silizium Solarzellen


    Zugriff

    Download


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Fabrication and analysis of co-diffused n-type silicon solar cells applying plasma-deposited diffusion sources


    Beteiligte:
    Wehmeier, Nadine (Autor:in) / Schmidt, Jan (Akademische:r Betreuer:in) / Wietler, Tobias (Akademische:r Betreuer:in) / Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover (Grad-verleihende Institution)

    Erscheinungsdatum :

    2016


    Format / Umfang :

    1 Online-Ressource (128 Seiten, 11,2 MB)


    Anmerkungen:

    Illustrationen, Diagramme
    Langzeitarchivierung durch Technische Informationsbibliothek (TIB) / Leibniz-Informationszentrum Technik und Naturwissenschaften und Universitätsbibliothek


    Medientyp :

    Hochschulschrift


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    BKL:    52.78 Oberflächentechnik, Wärmebehandlung / 53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher



    Fabrication and analysis of co-diffused n-type silicon solar cells applying plasma-deposited diffusion sources

    Wehmeier, Nadine / Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover / Verlag Dr. Hut, München | TIBKAT | 2017




    Co-diffused back-contact back-junction silicon solar cells

    Keding, Roman Johannes / Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE | TIBKAT | 2015