We have conducted transmission measurements in laser modified and pristine sites of fused silica substrates at 355 nm, 532 nm and 1064 nm. Multiphoton absorption at 355 nm was considerably stronger in the modified regions compared to pristine sites and was strongly dependent on the excitation wavelength.


    Zugriff

    Zugriff prüfen

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Multiphoton absorption in laser modified sites of fused silica substrates


    Beteiligte:
    Walser, A.D. (Autor:in) / Dorsinville, R. (Autor:in) / Demos, S.G. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2003


    Format / Umfang :

    144181 byte



    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch




    Fused silica reflectors in laser test

    Beller, W. | Engineering Index Backfile | 1963


    Laser-induced backside wet etching of fused silica: absorption coefficient dependence [5131-36]

    Vass, C. / Hopp, B. / Smausz, T. | British Library Conference Proceedings | 2003