Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Electrochemical atomic layer deposition of Bi



    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    2016




    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch



    Klassifikation :

    Lokalklassifikation TIB:    645/5625
    BKL:    52.57 Energiespeicherung / 53.36 Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher




    Mirror coatings with atomic layer deposition : initial results

    Nikzad, Shouleh / Greer, H. Frank / Traub, Wesley A. | NTRS | 2012


    Atomic layer deposition of zinc based transparent conductive oxides

    Gurram, Sanjeev Kumar / Technische Universität Braunschweig | TIBKAT | 2017