Niederdruckplasma entsteht durch Zerschlagen von Gasmolekeln (Ionisation), so dass ein mit positiven, negativen und neutralen Teilchen angereichertes Gas entsteht. Energietraeger sind die Elektronen und das als Folge von Rekombinationsprozessen entstehende UV-Licht. Aufgezeigt werden die Vorteile von Niederdruckplasma im Vergleich zu herkoemmlichen nasschemischen Prozessen. Bisher erfolgte industrielle Anwendungen im Bereich Elektronik (Verkleben, Bohrlochreinigen von Leiterplatten), Automobilbau (Oberflaechenreinigung, Oberflaechenbehandlung) und Verarbeitung von Formteilen und Behaelter von Verpackungen (Hydrophilisierung) werden beschrieben. Das Ionenstrahl-Aetzen findet vorwiegend Anwendung in der in Mikrobereichen arbeitenden Halbleiter-Industrie. Prozesseigenschaften und der schematische Aufbau werden dargestellt. (Wemhoener)


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    Titel :

    Niederdruckplasma - ein technisch vielfaeltig nutzbares Naturphaenomen


    Weitere Titelangaben:

    Low pressure plasma - a natural phenomena which can be used in a great variety of applications


    Beteiligte:
    Liebel, G. (Autor:in) / Moehl, W. (Autor:in)

    Erschienen in:

    VDI Zeitschrift ; 131 , 5 ; 36-38


    Erscheinungsdatum :

    1989


    Format / Umfang :

    3 Seiten, 5 Bilder


    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Deutsch





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