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    Titel :

    Deep reactive ion etching of silica for planar lightwave circuits using indigenously developed ECR/RIE system [4417-32]



    Kongress:

    International conference, Fiber optics and photonics; Photonics 2000 ; 2000 ; Calcutta, India



    Erscheinungsdatum :

    01.01.2001


    Format / Umfang :

    4 pages




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch




    Trimming Silica Planar Lightwave Circuits Using Deep Ultraviolet Ultrafast Lasers

    Chen, K. | British Library Conference Proceedings | 2005



    Nr. 4417

    DataCite | 1930


    Er3-Doped Silica-Based Planar Lightwave Circuits

    IEEE; Lasers and Electro-Optics Society / IEEE; Electron Devices Society | British Library Conference Proceedings | 1994


    Interferometric circuits: analysis, configurations, applications [4417-16]

    Schwelb, O. / SPIE - The International Society for Optical Engineering / Central Glass and Ceramic Research Institute et al. | British Library Conference Proceedings | 2001