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    Titel :

    High precision, low cost mask for deep x-ray lithography


    Beteiligte:
    Shew, B.-Y. (Autor:in) / Cheng, Y. (Autor:in) / Shih, W.-P. (Autor:in) / Lu, M. (Autor:in) / Lee, W. H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.1998


    Format / Umfang :

    4 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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