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    Titel :

    Improvement of sidewall roughness in deep silicon etching


    Beteiligte:
    Chabloz, M. (Autor:in) / Sakai, Y. (Autor:in) / Matsuura, T. (Autor:in) / Tsutsumi, K. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2000


    Format / Umfang :

    4 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Sidewall roughness control in advanced silicon etch process

    Liu, H.-C. / Lin, Y.-H. / Hsu, W. | British Library Online Contents | 2003


    Modification of sidewall roughness in silica deep etching and its influence on coupling loss in hybrid integration [4944-42]

    Choi, D. Y. / Lee, J. H. / Kim, D. S. et al. | British Library Conference Proceedings | 2003



    Sidewall slopes and roughness of SU-8 HARMST

    Vora, K. D. / Shew, B. Y. / Lochel, B. et al. | British Library Online Contents | 2008


    Impact of Sidewall Roughness on Integrated Bragg Gratings

    Simard, A.D. / Ayotte, N. / Painchaud, Y. et al. | British Library Online Contents | 2011