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    Titel :

    Simulation of deep UV lithography with SU-8 resist by using 365 nm light source


    Beteiligte:
    Tian, X. (Autor:in) / Liu, G. (Autor:in) / Tian, Y. (Autor:in) / Zhang, P. (Autor:in) / Zhang, X. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 11 , 4/5 ; 265-270


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2005


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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