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    Titel :

    SU-8 as resist material for deep X-ray lithography


    Beteiligte:
    Cremers, C. (Autor:in) / Bouamrane, F. (Autor:in) / Singleton, L. (Autor:in) / Schenk, R. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2001


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



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