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    Titel :

    Process conditions in X-ray lithography for the fabrication of devices with sub-micron feature sizes


    Beteiligte:
    Mappes, T. (Autor:in) / Achenbach, S. (Autor:in) / Mohr, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 13 , 3-4 ; 355-360


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2007


    Format / Umfang :

    6 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Fabrication of sub-micron structures for MEMS using deep X-ray lithography

    Ueno, H. / Zhang, Y. / Nishi, N. et al. | British Library Online Contents | 2000


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    Hansong, L. / Yucheng, D. / Bingheng, L. | British Library Online Contents | 2006



    Process conditions for the fabrication of subwavelength scale structures by x-ray lithography in PMMA films [5450-09]

    Achenbach, S. C. / Mappes, T. / Fettig, R. et al. | British Library Conference Proceedings | 2004