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    Titel :

    Modeling diamond deposition in a plasma assisted CVD reactor


    Beteiligte:
    HYMAN, E. (Autor:in) / TSANG, K. (Autor:in) / DROBOT, A. (Autor:in) / LANE, B. (Autor:in)

    Kongress:

    23rd Plasmadynamics and Lasers Conference ; 1992 ; Nashville , TN , U.S.A.



    Erscheinungsdatum :

    01.01.1992



    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch





    Laser-assisted chemical vapor deposition of diamond films [3550-08]

    Ren, D. / Hu, X. / Liu, F. et al. | British Library Conference Proceedings | 1998


    Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition of Diamond Microstructures [3573-51]

    Toth, Z. / Mechler, A. / Heszler, P. et al. | British Library Conference Proceedings | 1998


    Enhanced Deposition Rate of Diamond in Atmospheric Pressure Plasma CVD

    Owano, T. G. / Zhao, M. / Kruger, C. H. et al. | British Library Conference Proceedings | 1997


    Enhanced deposition rate of diamond in atmospheric pressure plasma CVD

    Owano, Thomas / Zhao, Maosheng / Kruger, Charles et al. | AIAA | 1997