We demonstrate polarization dependence of the etch rate in femtosecond laser fabrication of 3-D microfluidic channels. We also show the existence of an energy threshold at which etching becomes highly selective.


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    Titel :

    3-D fabrication of microfluidic channels in fused silica using focused femtosecond laser beams


    Beteiligte:
    Hnatovsky, C. (Autor:in) / Taylor, R.S. (Autor:in) / Bhardwaj, R. (Autor:in) / Simova, E. (Autor:in) / Rayner, D.M. (Autor:in) / Corkum, P.B. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Erscheinungsdatum :

    01.01.2005


    Format / Umfang :

    1735933 byte




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch