Zugriff

    Zugriff über TIB

    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

    Bestellung bei Subito €


    Exportieren, teilen und zitieren



    Titel :

    Design of solenoidal electromagnetic microactuator utilizing 3D X-ray lithography and metalization


    Beteiligte:
    Mochizuki, H. (Autor:in) / Mekaru, H. (Autor:in) / Kusumi, S. (Autor:in) / Sato, N. (Autor:in) / Shimizu, M. (Autor:in) / Yamashita, M. (Autor:in) / Shimada, O. (Autor:in) / Hattori, T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 13 , 5-6 ; 547-550


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2007


    Format / Umfang :

    4 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83



    Double metalization for VLSI

    Trotter, J. D. / Wade, T. E. | NTRS | 1980


    Application of UV depth lithography and 3D-microforming for high aspect ratio electromagnetic microactuator components

    Kohlmeier, T. / Seidemann, V. / Buttgenbach, S. et al. | British Library Online Contents | 2002


    Progress in MOSFET double-layer metalization

    Gassaway, J. D. / Trotter, J. D. / Wade, T. E. | NTRS | 1980


    Tests on Double Layer Metalization

    Woo, D. S. | NTRS | 1983


    Multilayer metalization of MOS IC's

    Bouldin, D. L. / Feltner, W. R. / Hollis, B. R., Jr. et al. | NTRS | 1980