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    Titel :

    A dual step precision multi-DOF stage for maskless digital lithography


    Beteiligte:
    Ihn, Y. S. (Autor:in) / Ji, S. H. (Autor:in) / Moon, H. (Autor:in) / Choi, H. R. (Autor:in) / Koo, J. C. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MICROSYSTEM TECHNOLOGIES ; 18 , 9/10 ; 1741-1750


    Erscheinungsdatum :

    01.01.2012


    Format / Umfang :

    10 pages



    Medientyp :

    Aufsatz (Zeitschrift)


    Format :

    Print


    Sprache :

    Englisch


    Klassifikation :

    DDC:    629.83




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