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    Titel :

    In-situ CI/sub 2/ Thermal Etching Of GaAs/AiGaAs For Damage Removal In A Plasma Etcher


    Beteiligte:
    Lechaton, J.S. (Autor:in) / Buchmann, P. (Autor:in) / Dietrich, H.-P. (Autor:in) / Sasso, G. (Autor:in) / Vettiger, P. (Autor:in) / Webb, D.J. (Autor:in)


    Erscheinungsdatum :

    01.01.1991


    Format / Umfang :

    150870 byte




    Medientyp :

    Aufsatz (Konferenz)


    Format :

    Elektronische Ressource


    Sprache :

    Englisch



    In-situ Processing Of GaAs/AiGaAs By Low Damage Selective Etching And Focussed Ion Beam Patterning

    Skidmore, J.A. / Spiers, G.D. / English, J.H. et al. | IEEE | 1991


    Periodically segmented channel waveguides in AIGaAs/GaAs

    Hyoun Soo Kim, / Sinha, S. / Ramaswamy, R.V. | IEEE | 1995


    Influence of Process Parameters on the Etching Rate in Inductively Coupled Plasma Etcher

    Xiaonan, C. / Peilin, Y. / Xuanming, P. | British Library Online Contents | 2004



    Quantum Well Wires Using As Implantation Induced Intermixing in GaAs/AIGaAs

    Ooi, B.S. / Saher Helmy, A. / Tang, Y.S. et al. | IEEE | 1998